#39 - Ưu Nhược Điểm Của Phủ PVD Và Phủ CVD | Hutscom.vn

Lớp phủ PVD (tên tiếng anh đầy đủ là Physical Vapor Deposition) có nghĩa là sự bốc hơi lắng đọng vật lý. Thông qua các phương pháp bắn điện trường, laser hoặc một số kỹ thuật khác. Quá trình này giúp khí ion sẽ ngưng tụ trên vật liệu nền carbide hoặc thép gió để tạo ra lớp phủ mong muốn.
Còn với Phương pháp phủ CVD (tên tiếng anh đầy đủ là Chemical Vapor deposition), có nghĩa là lớp phủ lắng đọng hơi hóa học. CVD là quá trình lắng đọng hơi hóa học được phủ ở dạng khí, nhiệt độ lắng đọng của lớp phủ CVD ở nhiệt độ tương đối cao trong khoảng 450°C đến 1050°C. Bên cạnh đó, lớp phủ CVD, các phân tử khí sẽ phản ứng với chất nền.
Hãy cùng xem video để hiểu thêm Ưu và nhược điểm của phương pháp phủ PVD và CVD nhé 👏👏
HUTSCOM - Nhà phân phối dụng cụ cơ khí, thiết bị công nghiệp uy tín tại thị trường Việt Nam
🌐 Website: hutscom.vn/
☎ Hotline: [phone]
🏚 Địa chỉ: Phòng G7, Số 6 Phùng Khắc Khoan, Phường Đakao, Quận 1, TPHCM.
★ Fanpage: / hutscom

[@dattranvan1297]

Cho e xin sdt liên hệ đk k a