[반도체 공정] 1. 산화 (Oxidation)

[@물고기-n3s]

감사합니다 핵심을 너무 잘 요약해주셔서 포인트를 잘잡을수 있었고 학교 쪽지시험도 망하지 않은거 같아요. 감사합니다!!!! 혹시 공정 영상은 더 안만드시나요? 학교 교수님 PPT랑 검색으로 어떻게든 하고는 있는데 요점은 잘 모르겠습니다

[@jeffchoi0522]

oxidation 자체를 열처리를 통한 SiO2 형성보다는, crystallization 특성 구현 & 활용을 통한 Oxide Layer 구현이 디테일하게 봤을 때 맞다고 보는데, 어떻게 생각하시나요?

[@KoreanChipmaker]

좋은 의견 감사합니다 ㅎㅎ 제가 말하고자 했던 것은, 열을 가해 산소와 웨이퍼 상 실리콘의 반응을 촉진하는게 핵심이라는 의미였습니다. 반응물을 다 가스로 공급하는 TEOS 같은 CVD 와의 차이를 설명하려는 의도였네요. 결정화 과정에 대해서는 저도 그렇게까지 생각 해 본적은 없네요. 그런데, 결정화 과정은 CVD옥사이드 에서도(비정질->폴리) 보이는 현상이라 산화공정만의 특징인지는 잘 모르겠습니다..

[@jae_0an713]

맛잇네요